純度

5N—7n

形態

Φ3*3，Φ3*10，φ6*6，φ6*10（可根據客戶要求定做）

簡介

廣泛應用于電子、通信、超導、航天等尖端領域，包括直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等。